
Reuters 路透社報導
面對美國制裁限制取得先進半導體設備,中國通訊巨頭華為(Huawei)近日發表全新晶片發展策略。華為預計透過優化架構而非縮小電晶體,在2031年實現等同1.4奈米製程的晶片效能,試圖在技術封鎖下另闢蹊徑。中國科技巨頭華為(Huawei)在上海舉行的國際電路與系統研討會(ISCAS)上,正式提出名為「Tau Scaling Law」的晶片發展新原則。華為半導體業務總裁 He Tingbo 表示,隨著半導體產業無法再單純依賴縮小電晶體尺寸來提升效能,華為將轉向優化晶片內部訊號與數據傳輸效率的新路徑。
這項策略的核心在於縮短晶片與運算系統間的數據移動時間。華為宣稱,即便在無法取得先進極紫外光(EUV)曝光機等關鍵設備的情況下,仍能透過這種方式提升晶片密度與效能。華為更設下目標,預計在2031年設計出效能等同於1.4奈米製程的高階晶片,這已接近本世紀末全球半導體的最尖端水準。
此外,華為計畫在2026年秋季推出的「麒麟」(Kirin)系列晶片中,首度採用名為「LogicFolding」的新架構。該技術旨在縮短晶片內部的佈線長度,進而大幅提升運算表現。華為表示,過去六年已基於此新原則設計並量產了381款晶片,廣泛應用於智慧型手機與人工智慧(AI)運算領域。
